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哈拉茲米大學--通過降低氧化石墨烯的比例來調節氧化石墨烯-氯鋁酞菁納米復合材料的帶隙
     RGO-ClAlPc納米復合材料,是通過在氯鋁酞菁(ClAlPc)和十二烷基硫酸鈉(SDS)存在下,使用水合肼,通過化學還原氧化石墨烯來合成的。在這項研究中,FTIR和UV-Vis光譜的結果表明,ClAlPc分子通過π-π相互作用附著在RGO板上。在溫度范圍[298 K–393 K]下,研究了RGO-ClAlPc納米復合材料的電性能。然后,由RGO-ClAlPc納米復合材料制成了數個具有30 nm厚和200 μm電極間距的叉指式平面器件。在恒定2 V下,電流與溫度的變化表明,RGO-ClAlPc納米復合材料的帶隙隨納米復合材料中GO還原速率的變化而變化。
 
Figure 1. 硅基板上的叉指電極。
 

Figure 2. (a,b)GO和(c,d)RGO-ClAlPc的SEM圖像。
 

Figure 3. GO和RGO的I–V表征。

 
Figure 4. 對于黑暗條件下,在歐姆區域和2 V恒定電壓下,高真空下加熱RGO-ClAlPc納米復合材料,I-T特性和電流隨溫度的變化進行了描述。
 

Figure 5. (a)在室溫下,比較RGO-ClAlPc納米復合材料、ClAlPc和GO的I–V特性。(b)在不同溫度下,器件的I–V特性。
 

Figure 6. 在2 V恒定電壓下,電流隨溫度變化的曲線:(a)RGO,(b)ClAlPc,(c)RGO-ClAlPc。(d)比較RGO、ClAlPc和RGO-ClAlPc的活化能。
 
     相關研究成果于2019年由Kharazmi University的Mohammad Esmaeil Azim Araghi課題組,發表在Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures(https://doi.org/10.1016/j.physe.2019.113636)上。原文:Tuning the band gap of the graphene oxide-chloro aluminum phthalocyanine nanocomposite by reducing the rate of graphene oxide。
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